Жуков Александр Валентинович

С. 397-408

Вакуумно-дуговой процесс испарения начинается с зажигания вакуумной дуги, которая формирует на поверхности катода одну или несколько точечных эмиссионных зон (катодные пятна), в которых концентрируется мощность разряда. Высокая температура в области катодного пятна вызывает испарение и ионизацию материала катода, образование потоков плазмы, распространяющихся в окружающее пространство. За время существования, катодное пятно оставляет на поверхности микрократер, затем гаснет и инициируется в новой области. Этот процесс визуально воспринимается как перемещение дуги по катоду. При этом образуются ветвления, одни из которых в дальнейшем гаснут, а другие продолжают свое движение.  Скорость хаотического движения катодного пятна зависит от режима работы устройства и материала катода. В литературе [8–10] выдвигается предположение, что возникающие при этом колебания тока разряда связаны со временем жизни дуги. Задачей авторов являлось рассмотрение возможности взаимосвязи колебаний тока разряда и особенностей движения катодной привязки вакуумной дуги.